真空处理装置、系统及真空处理方法
摘要:
本公开提供了一种真空处理装置,其特征在于,包括:样品停放装置,包括:第一对准机构;掩膜停放装置,包括:与第一对准机构相配合的第二对准机构,用于使样品停放装置与掩膜停放装置对准;以及驱动装置,包括:驱动轴,与样品停放装置连接,用于驱动样品停放装置旋转。
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