本发明涉及一种靶位结构及具有该靶位结构的溅射镀膜机，包括孪生靶，孪生靶包括左右并列设置并且能够相对旋转的两个圆筒靶，两个圆筒靶之间具有第一缝隙，圆筒靶的内部设有磁铁；所述靶位结构还包括整流罩和两个风刀；两个圆筒靶处于整流罩中，整流罩的前侧具有条形溅射口，整流罩上开设有两个条形进风口，两个条形进风口分别处于条形溅射口的左右两侧；两个风刀均设置在整流罩外面并分别与相应的条形进风口相对应，风刀的条形风刀口向后倾斜朝向相应圆筒靶的靶面；两个圆筒靶与整流罩之间分别具有第二缝隙。本发明不仅能够有效地除掉孪生靶的表面吸附的灰尘杂质，而且可使溅射更加均匀，并提高工艺气体的利用率以及放电的稳定性。