一种溅射镀膜装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116240505A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202310498635.8

    申请日:2023-05-06

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/54

    摘要: 一种溅射镀膜装置,包括设置在真空腔体中的溅射靶、防护罩、两个固定挡板和两个活动挡片组;溅射靶包括两个圆柱形靶材,两个圆柱形靶材处于防护罩中,防护罩的前侧具有条形溅射口;两个固定挡板并排设置在条形溅射口的左右两侧,两个活动挡片组分别设置在相应的固定挡板上,活动挡片组包括自上至下紧密排列的多个活动挡片,活动挡片可左右滑动安装在固定挡板上,各个活动挡片均可自条形溅射口的边沿伸出以构成对圆柱形靶材的遮挡;所述溅射镀膜装置还包括能够对两个活动挡片组的各活动挡片在左右方向上的位置进行调节的位置调节机构。这种溅射镀膜装置能够实现对溅射靶不同位置的溅射速率进行控制,从而提高镀膜的均匀性,达到均匀镀膜的效果。

    一种旋转镀膜机及其镀膜方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116411248A

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202310679453.0

    申请日:2023-06-09

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/50 C23C14/54

    摘要: 本发明涉及一种旋转镀膜机及其镀膜方法,旋转镀膜机包括真空腔室、溅射系统、样品旋转架和用于驱动样品旋转架转动的第一驱动装置;溅射系统的主体为溅射靶位结构,溅射靶位结构包括整流罩、溅射靶、用于驱动溅射靶转动的第二驱动装置、溅射口开关控制机构,溅射口正对样品旋转架;所述旋转镀膜机还包括控制装置、膜厚传感器和用于感应样品旋转架起始角度的起始角度感应器,膜厚传感器、起始角度感应器分别与控制装置相应的输入端电连接,第一驱动装置、第二驱动装置、位置调节装置分别与控制装置相应的输出端电连接。本发明能够精确地控制样品的镀膜膜厚,并使同一样品旋转架上各样品的最终膜厚具有较好的一致性。

    一种靶位结构及溅射镀膜机

    公开(公告)号:CN116200713B

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN202310491295.6

    申请日:2023-05-05

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56 B08B5/02

    摘要: 本发明涉及一种靶位结构及具有该靶位结构的溅射镀膜机,包括孪生靶,孪生靶包括左右并列设置并且能够相对旋转的两个圆筒靶,两个圆筒靶之间具有第一缝隙,圆筒靶的内部设有磁铁;所述靶位结构还包括整流罩和两个风刀;两个圆筒靶处于整流罩中,整流罩的前侧具有条形溅射口,整流罩上开设有两个条形进风口,两个条形进风口分别处于条形溅射口的左右两侧;两个风刀均设置在整流罩外面并分别与相应的条形进风口相对应,风刀的条形风刀口向后倾斜朝向相应圆筒靶的靶面;两个圆筒靶与整流罩之间分别具有第二缝隙。本发明不仅能够有效地除掉孪生靶的表面吸附的灰尘杂质,而且可使溅射更加均匀,并提高工艺气体的利用率以及放电的稳定性。

    一种膜层结构及其制备方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116693915A

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202310887710.X

    申请日:2023-07-19

    IPC分类号: C08J7/043 C08L79/08 C09D7/61

    摘要: 本发明涉及一种膜层结构及其制备方法,膜层结构包括CPI膜和至少一层功能性膜层,所述CPI膜与功能性膜层之间设有抗压层,抗压层为由硬质颗粒与粘合剂构成的涂层;其制备方法包括如下步骤:(1)在母板(如玻璃母板)上涂布聚酰亚胺膜的前驱物(如聚酰胺酸溶液),并将其固化形成CPI膜;其特征在于:还包括(2)在所述CPI膜的表面上涂布由硬质颗粒与粘合剂构成的涂层,形成抗压层;(3)在抗压层上设置至少一层功能性膜层;(4)将附着在母板上的所有膜层从母板上剥离下来,得到所述膜层结构。其能够减小CPI膜上的功能性膜层因压应力而造成的破坏,有利于提高膜层结构的稳定性。

    一种靶位结构及溅射镀膜机
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116200713A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202310491295.6

    申请日:2023-05-05

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56 B08B5/02

    摘要: 本发明涉及一种靶位结构及具有该靶位结构的溅射镀膜机,包括孪生靶,孪生靶包括左右并列设置并且能够相对旋转的两个圆筒靶,两个圆筒靶之间具有第一缝隙,圆筒靶的内部设有磁铁;所述靶位结构还包括整流罩和两个风刀;两个圆筒靶处于整流罩中,整流罩的前侧具有条形溅射口,整流罩上开设有两个条形进风口,两个条形进风口分别处于条形溅射口的左右两侧;两个风刀均设置在整流罩外面并分别与相应的条形进风口相对应,风刀的条形风刀口向后倾斜朝向相应圆筒靶的靶面;两个圆筒靶与整流罩之间分别具有第二缝隙。本发明不仅能够有效地除掉孪生靶的表面吸附的灰尘杂质,而且可使溅射更加均匀,并提高工艺气体的利用率以及放电的稳定性。

    一种减少桥点反射光的电容触摸屏

    公开(公告)号:CN206848987U

    公开(公告)日:2018-01-05

    申请号:CN201720658095.5

    申请日:2017-06-08

    IPC分类号: G06F3/044

    摘要: 一种减少桥点反射光的电容触摸屏,包括透明基板和触控电路层,触控电路层包括主体由第一透明导电层图形化而成的第一、二电极,第一、二电极相互交叉构成感应阵列,其交叉点设有跳线结构,跳线结构由外到内依次包括外侧导电部、绝缘垫块和内侧导电部,外侧导电部和内测导电部分别用于连接第一、二电极,外侧导电部同由第一透明导电层图形化而成;绝缘垫块与第一透明导电层之间还夹设有由第二透明导电层图形化而成的透明垫块,其与第一透明导电层构成一复合透明导电层。这种电容触摸屏,其不仅能够有效地减少桥点反射光,还可避免电极边缘反射光的变大。