发明授权
CN1162855C 薄壁构件的成形方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 薄壁构件的成形方法
- 专利标题(英): Method for forming thin wall member
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申请号: CN97123164.8申请日: 1997-11-20
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公开(公告)号: CN1162855C公开(公告)日: 2004-08-18
- 发明人: 角陆晋二 , 丸山义雄 , 东田隆亮 , 油谷博 , 松村圭三
- 申请人: 松下电器产业株式会社
- 申请人地址: 日本国大阪府
- 专利权人: 松下电器产业株式会社
- 当前专利权人: 松下电器产业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国大阪府
- 代理机构: 上海专利商标事务所
- 代理商 王树俦
- 优先权: 310856/1996 1996.11.21 JP
- 主分类号: G11B7/26
- IPC分类号: G11B7/26
摘要:
本发明涉及薄壁构件成形方法,对该构件进行注射成形、在模具开启动作中、直至开启达到薄壁构件变形成为容许量的程度、为用空气流使薄壁构件从固定侧金属模剥离、用低速进行模具开启或使模具开启暂时停止;或通过在使薄壁构件伸出时、直至薄壁构件伸出量达到薄壁构件的变形成为容许量的程度、为用空气流使薄壁构件从可动侧金属模剥离用低速进行伸出动作或使伸出动作暂时停止,具有能用强空气流促进在模具开启时的冷却与从金属模的剥离以及无障碍地缩短成形周期等效果。
公开/授权文献
- CN1183617A 薄壁构件的成型方法及其装置 公开/授权日:1998-06-03
IPC分类: