Invention Grant
- Patent Title: 一种降氧式单晶炉和降氧式单晶生长方法
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Application No.: CN202310665906.4Application Date: 2023-06-07
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Publication No.: CN116397316BPublication Date: 2023-08-08
- Inventor: 陈伟 , 周嘉菊 , 李林东 , 王艳霞 , 许堃 , 李安君 , 吴超慧 , 李永刚 , 罗昌萍 , 陈志军
- Applicant: 苏州晨晖智能设备有限公司
- Applicant Address: 江苏省苏州市自由贸易试验区中国(江苏)苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道88号G3-2401
- Assignee: 苏州晨晖智能设备有限公司
- Current Assignee: 宇泽半导体(文山)有限公司
- Current Assignee Address: 663000 云南省文山壮族苗族自治州广南县产业示范园昔板片区
- Agency: 北京超凡宏宇专利代理事务所
- Agent 赵亚楠
- Main IPC: C30B15/00
- IPC: C30B15/00 ; C30B15/14 ; C30B29/06
Abstract:
本发明属于单晶炉单晶硅生长技术领域,具体涉及一种降氧式单晶炉和降氧式单晶生长方法,包括上炉室、下炉室、坩埚和主加热器,上保温筒及其外的上保温筒毡,中保温筒及其外的中保温筒毡、下保温筒及其外的下保温筒毡,所述主加热器具有下开缝发热区和上开缝发热区,所述主加热器还包括若干堵条,所述堵条分别嵌入所述主加热器的下开缝发热区的底部并沿其具有的开缝向上延伸,且与堵条配套新增n层上保温筒毡、n层中保温筒毡,P=S×U²/[ρ(L‑m)];n=P/1kw。本发明能在保障单晶硅生长热场需求的同时减少坩埚R角部分的高温烘烤,降低单晶硅棒的氧含量,提高晶棒品质及太阳能电池片的光电转换效率。
Public/Granted literature
- CN116397316A 一种降氧式单晶炉和降氧式单晶生长方法 Public/Granted day:2023-07-07
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