- 专利标题: 一种柱状P沟道的碳化硅浮动结二极管及制备方法
-
申请号: CN202310708240.6申请日: 2023-06-15
-
公开(公告)号: CN116454138A公开(公告)日: 2023-07-18
- 发明人: 宋庆文 , 李靖域 , 袁昊 , 汤晓燕 , 张玉明 , 王晨谕 , 何晓宁
- 申请人: 西安电子科技大学 , 陕西半导体先导技术中心有限公司
- 申请人地址: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号;
- 专利权人: 西安电子科技大学,陕西半导体先导技术中心有限公司
- 当前专利权人: 西安电子科技大学,陕西半导体先导技术中心有限公司
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号;
- 代理机构: 西安嘉思特知识产权代理事务所
- 代理商 万艳艳
- 主分类号: H01L29/872
- IPC分类号: H01L29/872 ; H01L29/06 ; H01L29/16 ; H01L21/329
摘要:
本发明涉及一种柱状P沟道的碳化硅浮动结二极管及制备方法,碳化硅浮动结二极管为圆柱型结构,包括:N型衬底、有源区N漂移区、终端区、若干P型浮动结、P型沟道区和若干P型重掺杂区,有源区N漂移区位于N型衬底上;终端区形成在有源区N漂移区中且环绕若干P型浮动结和若干P型重掺杂区;若干P型浮动结分布在有源区N漂移区的内部且具有相同的深度;P型沟道区连接若干P型浮动结,且从有源区N漂移区的内部延伸至有源区N漂移区的表面;若干P型重掺杂区分布在有源区N漂移区的表层,若干P型重掺杂区环绕P型沟道区的延伸部分。该二极管提高了浮动结碳化硅二极管的工作频率范围和终端区对边缘电场的屏蔽作用。
公开/授权文献
- CN116454138B 一种柱状P沟道的碳化硅浮动结二极管及制备方法 公开/授权日:2023-09-08
IPC分类: