调节设备和方法

发明公开

摘要：

提供了一种用于光刻设备的调节系统，所述调节系统被配置成调节光刻设备的一个或多个光学元件，其中所述调节系统被配置成在一个或多个光学元件处具有亚大气压力。还提供了包括这种调节系统的光刻设备、这种调节系统的用途、调节系统的方法以及包括亚大气压力冷却系统的光刻方法。

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）