发明公开
- 专利标题: 一种吸隔声抑制型降噪声子晶体、声学超材料及降噪装置
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申请号: CN202310597609.0申请日: 2023-05-22
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公开(公告)号: CN116543736A公开(公告)日: 2023-08-04
- 发明人: 付波 , 杜军亚 , 李超顺 , 赵熙临 , 游笔佳 , 杨勇康 , 方文俊 , 马瑾璁
- 申请人: 湖北工业大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区南李路28号
- 专利权人: 湖北工业大学
- 当前专利权人: 湖北工业大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区南李路28号
- 代理机构: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所
- 代理商 张璐
- 主分类号: G10K11/172
- IPC分类号: G10K11/172 ; G10K11/162
摘要:
本发明涉及一种吸隔声抑制型降噪声子晶体、声学超材料及降噪装置,其包括外框体、共振体和腔体板,其中外框体内部中空,外框体上开设有第一收音孔和第二收音孔,共振体连接于外框体内,共振体用于受从第一收音孔入射的声波激励进行共振,腔体板连接于外框体内,并和外框体的内壁合围成独立的共振空间,第二收音孔连通共振空间以构成亥姆霍兹腔。相比于现有技术,本发明将局域共振和亥姆霍兹消声两种方式相结合,具备两种方式的优点,拥有更宽的隔声频段范围,特别是针对低频噪音尤为有效,同时,本发明的几何设计相对独特且简单,体积小,拥有空间优势,具备轻质化,易加工等特点。