发明公开
- 专利标题： 抛光机工艺参数调节方法、装置、计算机设备和存储介质
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申请号： CN202310995157.1申请日： 2023-08-09
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公开(公告)号： CN116690402A公开(公告)日： 2023-09-05
- 发明人: 朱亮 , 李阳健 , 石秋天 , 张涛
- 申请人： 浙江晶盛机电股份有限公司 , 浙江晶盛创芯半导体设备有限公司
- 申请人地址： 浙江省绍兴市上虞区通江西路218号;
- 专利权人： 浙江晶盛机电股份有限公司,浙江晶盛创芯半导体设备有限公司
- 当前专利权人： 浙江晶盛机电股份有限公司,浙江晶盛创芯半导体设备有限公司
- 当前专利权人地址： 浙江省绍兴市上虞区通江西路218号;
- 代理机构： 杭州华进联浙知识产权代理有限公司
- 代理商 黄文勇
- 主分类号： B24B29/02
- IPC分类号： B24B29/02 ; B24B49/14 ; B24B51/00 ; B24B55/02
摘要：
本申请涉及一种抛光机工艺参数调节方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：控制所述抛光机进行抛光，并获取所述抛光机内多个区域采集的温度数据和所述抛光机的工艺参数；将所述温度数据、所述工艺参数和待抛光物件的平整度参数输入至预先训练的抛光分析模型，得到目标工艺参数；将所述抛光机的工艺参数实时调整为目标工艺参数。采用本方法能够实现通过调整工艺参数对温度进行灵活控制，达到提高抛光品质的效果。
公开/授权文献
- CN116690402B 抛光机工艺参数调节方法、装置、计算机设备和存储介质 公开/授权日：2023-11-14
