发明公开
- 专利标题： 光刻机光源输出能量的建模方法及模型
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申请号： CN202310682658.4申请日： 2023-06-09
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公开(公告)号： CN116720360A公开(公告)日： 2023-09-08
- 发明人: 刘锴锋 , 梁赛 , 冯泽斌 , 徐向宇 , 江锐
- 申请人： 北京科益虹源光电技术有限公司
- 申请人地址： 北京市大兴区经济技术开发区融兴北一街19号院中寰工程4号楼一层
- 专利权人： 北京科益虹源光电技术有限公司
- 当前专利权人： 北京科益虹源光电技术有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市大兴区经济技术开发区融兴北一街19号院中寰工程4号楼一层
- 代理机构： 北京融智邦达知识产权代理事务所
- 代理商 吴强
- 主分类号： G06F30/20
- IPC分类号： G06F30/20 ; G06F18/213 ; G06F111/10
摘要：
本发明涉及光刻机光源技术领域，具体涉及光刻机光源输出能量的建模方法及模型，所述方法包括：在同一输入电压下各burst的同一位置脉冲对应的各输出能量值中，随机选取一个作为该输入电压下、该burst内的当前位置脉冲的输出能量值，构建原始输出能量模型；针对光刻机光源输出能量进行频域分析，确定风机振动为所述输出能量的最大干扰后，构建干扰信号模型；在原始输出能量模型中加入干扰信号模型，得到光刻机光源输出能量模型。
