发明公开
- 专利标题: 覆晶薄膜、显示装置及制备方法
-
申请号: CN202310798861.8申请日: 2023-06-30
-
公开(公告)号: CN116761453A公开(公告)日: 2023-09-15
- 发明人: 李国腾 , 卢鑫泓 , 董水浪 , 周靖上 , 李柳青 , 杨少鹏 , 李宝曼 , 崔钊
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京风雅颂专利代理有限公司
- 代理商 李莎
- 主分类号: H10K50/844
- IPC分类号: H10K50/844 ; H10K50/88 ; H10K59/12 ; H10K59/80 ; H10K59/82 ; H10K71/00 ; H01L33/62 ; H01L33/54 ; H01L33/00 ; H01L27/15
摘要:
本申请提供一种覆晶薄膜、显示装置及制备方法;所述覆晶薄膜,包括:衬底基板,所述衬底基板上布置有图案化的金属走线;封装层,设置在所述金属走线远离所述衬底基板的一侧,在所述衬底基板上的正投影覆盖所述金属走线在所述衬底基板上的正投影;金属引脚,设置在所述封装层远离所述衬底基板的一侧,并与所述金属走线远离所述衬底基板的一侧固定连接;阻隔层,设置在所述封装层远离所述衬底基板的一侧,并与所述金属引脚连接,被配置为对所述金属引脚和所述封装层之间的间隙进行密封;本申请利用阻隔层能够对封装层与金属引脚间的间隙进行密封,避免金属引脚进行化锡工艺时被酸液腐蚀,防止金属引脚发生表层剥落或脱离,提高覆晶薄膜的弯曲性能。