发明公开
- 专利标题： 一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法、缓冲层及含其的抛光垫和应用
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申请号： CN202210264570.6申请日： 2022-03-17
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公开(公告)号： CN116787323A公开(公告)日： 2023-09-22
- 发明人: 刘相宝 , 田骐源 , 王凯
- 申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 申请人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 主分类号： B24B37/24
- IPC分类号： B24B37/24 ; B24B37/26
摘要：
本发明提供一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法，包括以下步骤：a）将聚氨酯树脂、添加剂溶解在溶剂中配制成浆料；b）将浆料以一定厚度均匀涂布在无纺布上，并在第一凝固浴、第二凝固浴中分步固化成型；c）将无纺布分离并水洗烘干得到缓冲层。本发明还提供了缓冲层及含其的抛光垫在化学机械抛光中的应用，可提高抛光垫在抛光时的表面平坦度。
