发明公开
- 专利标题: 新型磁性核壳型镉离子印迹聚合物及其制备方法和应用
-
申请号: CN202310559617.6申请日: 2023-05-18
-
公开(公告)号: CN116813847A公开(公告)日: 2023-09-29
- 发明人: 何红星 , 张炜业 , 叶思卿 , 邓秀君 , 张毅 , 李维莉
- 申请人: 昆明学院
- 申请人地址: 云南省昆明市五华区春晖路1号昆明学院
- 专利权人: 昆明学院
- 当前专利权人: 昆明学院
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市五华区春晖路1号昆明学院
- 代理机构: 北京千慕专利代理事务所
- 代理商 管育进
- 主分类号: C08F292/00
- IPC分类号: C08F292/00 ; B01J20/26 ; C02F1/28 ; B01J20/28 ; C08F222/38 ; C08J9/26 ; C08L51/10 ; C02F101/22
摘要:
本发明提供了一种新型磁性核壳型镉离子印迹聚合物及其制备方法和应用,属于高分子材料技术领域。本发明以SiO2包覆的纳米Fe3O4为载体,PBTCA作为配体,MBA作为交联剂,利用表面印迹技术和化学接枝制备得到了新型磁性核壳型镉离子印迹聚合物,对Cd2+的最大吸附容量可达29.82mg/g,吸附过程在20min内即可达到基本平衡,整个吸附过程符合准二级动力学模型和Langmuir等温吸附模型。该印迹聚合物对Cd2+的吸附是一个自发、吸热、熵增的过程,且在含有Cd2+、Ni2+、Co2+、Zn2+的混合溶液中,对Cd2+的分配系数达643.3mL/g,证明其具有选择性吸附Cd2+离子能力。