提供反应室的方法、反应室和激光蒸发系统
Abstract:
本发明涉及一种为激光蒸发系统(100)提供反应室(10)的方法,所述反应室(10)包括至少一个壁部(20),所述壁部具有面向所述激光蒸发系统(100)的反应体积(12)的内表面(22)。另外,本发明涉及一种用于激光蒸发系统(100)的反应室(10),所述反应室(10)包括至少一个壁部(20),所述壁部具有包围反应体积(12)的内表面(22)。此外,本发明涉及一种包括反应室(10)的激光蒸发系统(100)。
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