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    光学元件及反应腔
    1.
    发明公开
    光学元件及反应腔 审中-实审

    公开(公告)号：CN117813416A

    公开(公告)日：2024-04-02

    申请号：CN202180101441.9

    申请日：2021-08-06

    Applicant: 马克斯·普朗克科学促进学会

    Inventor： W·布劳恩

    IPC: C23C14/28 ,  B01J3/03 ,  B23K26/064 ,  B23K26/12 ,  B23K26/352 ,  B23K26/362 ,  C23C14/52 ,  C23C14/54 ,  G02B7/00 ,  C21D8/06

    Abstract: 本发明有关一种与反应腔(70)配合使用的光学元件(10)，该反应腔(70)特别是热激光蒸发系统的反应腔(70)，该反应腔(70)具有腔壁(72)，该反应腔(70)的凸缘(80)设置在该腔壁(72)中的开口(74)处。此外，本发明有关一种反应腔(70)，特别是热激光蒸发系统的反应腔(70)，包括用于包围可密封的反应容积的腔壁(72)，该反应容积特别地可相对于环境气氛密封，该反应容积可填充有反应气氛(90)，该反应腔(70)进一步包括设置在该腔壁(72)中的开口(74)处的凸缘(80)。

    使用热激光蒸发系统的方法及热激光蒸发系统
    2.
    发明公开
    使用热激光蒸发系统的方法及热激光蒸发系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN119032196A

    公开(公告)日：2024-11-26

    申请号：CN202280093766.1

    申请日：2022-01-20

    Applicant: 马克斯·普朗克科学促进学会

    Inventor： W·布劳恩

    IPC: C23C14/28

    Abstract: 本发明涉及一种使用热激光蒸发(TLE)系统(100)的方法，该系统(100)包括可填充反应气氛(14)的反应室(10)，布置于该反应室(10)中的一个或多个源(30)，每个源(30)均包括源材料(32)，以及用于在该源(30)的表面(34)提供激光辐射(52)并由此使该源材料(32)升华的激光源(50)。另外，本发明涉及一种热激光蒸发系统(100)，其包括可填充反应气氛(14)的反应室(10)，布置于该反应室(10)中的一个或多个源(30)，每个源均包括源材料(32)，以及由该反应室(10)提供的联接装置(12)，用于将激光辐射(52)联接于该反应室(10)中，以照射于该源(30)的表面(34)上并由此使该源材料(32)升华。

    使用热激光蒸发系统的方法及热激光蒸发系统
    3.
    发明公开
    使用热激光蒸发系统的方法及热激光蒸发系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN118946683A

    公开(公告)日：2024-11-12

    申请号：CN202280093840.X

    申请日：2022-01-20

    Applicant: 马克斯·普朗克科学促进学会

    Inventor： W·布劳恩

    IPC: C23C14/28

    Abstract: 本发明涉及一种使用热激光蒸发(TLE)系统(100)的方法，该系统(100)包括：反应腔室(10)，可填充反应气氛(14)；一个或多个源(30)，布置在反应腔室(10)中，每个源(30)包括源材料(32)；以及激光源(50)，用于在源(30)的表面(34)处提供激光辐射(52)并由此蒸发源材料(32)。此外，本发明涉及一种热激光蒸发系统(100)，其包括：反应腔室(10)，可填充反应气氛(14)；一个或多个源(30)，布置在反应腔室(10)中，每个源包括源材料(32)；以及由反应腔室(10)提供的耦合装置(12)，用于将激光辐射(52)耦合到反应腔室(10)中，以撞击源(30)的表面(34)并由此蒸发源材料(32)。

    提供反应室的方法、反应室和激光蒸发系统
    7.
    发明公开
    提供反应室的方法、反应室和激光蒸发系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN116848286A

    公开(公告)日：2023-10-03

    申请号：CN202180093977.0

    申请日：2021-02-18

    Applicant: 马克斯·普朗克科学促进学会

    Inventor： W·布劳恩 ,  J·曼哈特 ,  J·A·博施克

    IPC: C23C14/24

    Abstract: 本发明涉及一种为激光蒸发系统(100)提供反应室(10)的方法，所述反应室(10)包括至少一个壁部(20)，所述壁部具有面向所述激光蒸发系统(100)的反应体积(12)的内表面(22)。另外，本发明涉及一种用于激光蒸发系统(100)的反应室(10)，所述反应室(10)包括至少一个壁部(20)，所述壁部具有包围反应体积(12)的内表面(22)。此外，本发明涉及一种包括反应室(10)的激光蒸发系统(100)。

    源装置和TLE系统
    8.
    发明公开
    源装置和TLE系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN118871610A

    公开(公告)日：2024-10-29

    申请号：CN202280093660.1

    申请日：2022-03-14

    Applicant: 马克斯·普朗克科学促进学会

    Inventor： W·布劳恩 ,  J·曼哈特

    IPC: C23C14/24 ,  C23C14/28 ,  C30B23/06 ,  C23C14/56

    Abstract: 本发明涉及一种用于TLE系统(100)的源装置(10)，该源装置(10)用于提供源元件(12)，该源元件(12)包括将由激光束(112)蒸发和/或升华的源材料(14)或由将由激光束(112)蒸发和/或升华的源材料(14)组成，该源装置(10)包括承载所述源元件的支撑件(20)。另外，本发明涉及一种TLE系统(100)，其包括用于提供激光束(112)的激光源(110)、用于容纳反应气氛(124)的反应室(120)、用于提供源元件(12)的源装置(10)、以及用于提供基板(132)的基板装置(130)，该源元件(12)包括在反应室(120)内将由激光束(112)蒸发和/或升华的源材料(14)或由在反应室(120)内将由激光束(112)蒸发和/或升华的源材料(14)组成，该基板(132)将用蒸发和/或升华的源材料(14)在反应室(120)内被涂覆。此外，本发明涉及一种用于使用TLE系统(100)的方法，该TLE系统(100)包括用于提供激光束(112)的激光源(110)、用于容纳反应气氛(124)的反应室(120)、用于提供源元件(12)的源装置(10)、以及用于提供基板(132)的基板装置(130)，该源元件(12)包括在反应室(120)内将由激光束(112)蒸发和/或升华的源材料(14)或由在反应室(120)内将由激光束(112)蒸发和/或升华的源材料(14)组成，该基板(132)将用蒸发和/或升华的源材料(14)在反应室(120)内被涂覆。

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