发明授权
- 专利标题: 一种循环印刷式集成电路制备方法
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申请号: CN202311189724.0申请日: 2023-09-15
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公开(公告)号: CN116936470B公开(公告)日: 2023-12-15
- 发明人: 管方圆 , 单欣 , 黄意雅 , 徐秀兰 , 于广华
- 申请人: 季华实验室
- 申请人地址: 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
- 专利权人: 季华实验室
- 当前专利权人: 季华实验室
- 当前专利权人地址: 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
- 代理机构: 佛山市海融科创知识产权代理事务所
- 代理商 许家裕
- 主分类号: H01L21/768
- IPC分类号: H01L21/768 ; B44B5/02 ; B44B5/00
摘要:
本申请属于集成电路制备技术领域,公开了一种循环印刷式集成电路制备方法,包括步骤:把待制备的芯片电路分解为多个子电路,记为实际子电路;根据所述实际子电路匹配出对应的标准子电路;选用与各所述标准子电路对应的标准压印滚轮,依次在半导体晶圆表面的介电层上滚压出对应各所述标准子电路的子电路凹槽,以组成所述待制备的芯片电路的整体电路凹槽;所述标准压印滚轮的周面上设置有与对应标准子电路匹配的微纳凸起;在所述整体电路凹槽中填充金属,得到芯片电路;从而能够降低芯片电路制备成本并提高总体生产效率。
公开/授权文献
- CN116936470A 一种循环印刷式集成电路制备方法 公开/授权日:2023-10-24
IPC分类: