发明授权
- 专利标题: 一种MEMS微镜阵列的制备方法
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申请号: CN202311193462.5申请日: 2023-09-15
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公开(公告)号: CN116953918B公开(公告)日: 2024-01-05
- 发明人: 李亚雷 , 温赛赛 , 仇旭萍 , 张裕华
- 申请人: 苏州亿波达微系统技术有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市吴中区经济开发区越溪街道吴中大道1421号太湖软件产业园智慧谷园区6号楼17层1701室
- 专利权人: 苏州亿波达微系统技术有限公司
- 当前专利权人: 苏州亿波达微系统技术有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市吴中区经济开发区越溪街道吴中大道1421号太湖软件产业园智慧谷园区6号楼17层1701室
- 代理机构: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所
- 代理商 冯瑞
- 主分类号: G02B26/08
- IPC分类号: G02B26/08
摘要:
本发明提供了一种MEMS微镜阵列的制备方法,包括如下步骤:S1、在读出电路板表面设置基板;S2、在基板表面沉积牺牲层,并在牺牲层表面刻蚀通孔;S3、在牺牲层表面沉积与读出电路板连接的镜面,得到MEMS微镜;S4、刻蚀MEMS微镜得到阵列化排布的微镜单元;S5、去除牺牲层,得到MEMS微镜阵列。本方法通过读出电路板与每个微镜单元的独立连接实现了其阵列化设置,每个微镜单元均能够独立控制其偏转,可在较小的静电驱动力作用下满足所需的偏转角度,提高了产品的使用灵活程度及效果,此外,本方法通过牺牲层的设置制备出扭转刚度较小的微镜阵列,并提高了镜面的填充率,使微镜单元可呈现出更佳的成像效果。
公开/授权文献
- CN116953918A 一种MEMS微镜阵列的制备方法及微镜 公开/授权日:2023-10-27