发明公开
- 专利标题： 一种过渡性膜层及其制备方法
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申请号： CN202310708393.0申请日： 2023-06-14
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公开(公告)号： CN116988040A公开(公告)日： 2023-11-03
- 发明人: 卢建宁
- 申请人： 上海应用技术大学
- 申请人地址： 上海市奉贤区海泉路100号
- 专利权人： 上海应用技术大学
- 当前专利权人： 上海应用技术大学
- 当前专利权人地址： 上海市奉贤区海泉路100号
- 代理机构： 上海领匠知识产权代理有限公司
- 代理商 陈剑
- 主分类号： C23C16/14
- IPC分类号： C23C16/14 ; C23C16/16 ; C23C16/18 ; C23C16/22 ; C23C16/44
摘要：
本发明公开了一种过渡性膜层及其制备方法，过渡性膜层生长于底层镀膜基材上，所述过渡性膜层为所述底层镀膜基材与上层目标膜层的过渡层，所述过渡性膜层为铁基膜。本发明通过在不兼容的底层镀膜基材和上层目标膜层之间引入中间过渡性膜层，利用过渡性膜层和底层镀膜基材以及上层目标膜层均兼容的特点，克服了上层目标膜层在这些底层镀膜基材上生长不良的问题，解决了现有技术中在高铝、高镍、高铜等基材上进行硅材膜镀膜时，硅材膜生长不良的问题。
IPC分类:
