发明公开
- 专利标题: 高稳定性除铯吸附剂的规模化制备方法及其产品与应用
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申请号: CN202311059860.8申请日: 2018-01-04
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公开(公告)号: CN117019109A公开(公告)日: 2023-11-10
- 发明人: 赵璇 , 尉继英 , 李福志
- 申请人: 清华大学
- 申请人地址: 北京市海淀区清华园1号
- 专利权人: 清华大学
- 当前专利权人: 清华大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华园1号
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 肖善强
- 主分类号: B01J20/24
- IPC分类号: B01J20/24 ; B01J20/26 ; B01J20/20 ; B01J20/04 ; B01J20/06 ; B01J20/28 ; B01J20/32 ; G21F9/12 ; C02F1/28
摘要:
本发明涉及高稳定性除铯吸附剂的规模化制备方法及其产品与应用。具体地,本发明涉及一种颗粒态无机氧化物或活性炭负载型过渡金属稳定的亚铁氰化物吸附剂,其包含:颗粒态的无机氧化物载体或者颗粒态的活性炭载体;包覆所述无机氧化物或活性炭载体的过渡金属稳定的亚铁氰化物层;以及包覆所述过渡金属稳定的亚铁氰化物层的高分子材料层。该吸附剂具有高压碎强度和低离子浸出率。本发明还涉及该吸附剂的制备方法及其在去除放射性同位素Cs离子和去除稳定性同位素Cs离子的应用,以及去除放射性同位素Rb离子和去除稳定性同位素Rb离子的应用。