Invention Grant
- Patent Title: 一种高精度X射线测试方法
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Application No.: CN202311369307.4Application Date: 2023-10-23
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Publication No.: CN117109492BPublication Date: 2024-01-23
- Inventor: 曲海波 , 赵杰 , 赵永丰 , 王虎
- Applicant: 北京华力兴科技发展有限责任公司
- Applicant Address: 北京市海淀区知春路63号北京卫星制造厂51号楼(卫星大厦)1301室
- Assignee: 北京华力兴科技发展有限责任公司
- Current Assignee: 北京华力兴科技发展有限责任公司
- Current Assignee Address: 北京市海淀区知春路63号北京卫星制造厂51号楼(卫星大厦)1301室
- Agency: 北京索悦知识产权代理有限公司
- Agent 张玉莹
- Main IPC: G01B15/02
- IPC: G01B15/02

Abstract:
本发明涉及射线测厚技术领域,具体提供了一种高精度X射线测试方法,通过获取工件长度S、工件设计厚度T、工件吸收系数μ和测量精度参数P,并获取反射层间距H和反射次数N;将工件放置于两个相互平行的反射层之间,两个反射层之间的间距为H;发射器以倾斜角度θ2向工件发射射线强度为E0的X射线,通过探测器接收X射线并获取接收时的接收强度E1,其中,θ2=arctanP/H);计算工件的测试平均厚度D=‑(LnE1‑LnE0/μN)*cosθ2。通过发射一次X射线,使得X射线在两个反射层之间进行多次反射并穿过工件多次,最终求得工件的平均厚度,提高了工件厚度的测定效率。
Public/Granted literature
- CN117109492A 一种高精度X射线测试方法 Public/Granted day:2023-11-24
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