发明公开
- 专利标题： 用于光刻的保护膜片、包括其的表膜和其形成方法
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申请号： CN202310811505.5申请日： 2023-07-03
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公开(公告)号： CN117452766A公开(公告)日： 2024-01-26
- 发明人: 金文子 , 李承炫 , 郑在善 , 刘炳哲 , 李炳勋 , 丁昶荣 , 金德铉 , 曹德贤
- 申请人： 三星电子株式会社 , 秀博瑞殷株式公社
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 三星电子株式会社,秀博瑞殷株式公社
- 当前专利权人： 三星电子株式会社,秀博瑞殷株式公社
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 金拟粲
- 优先权： 10-2022-0092156 2022.07.26 KR
- 主分类号： G03F1/62
- IPC分类号： G03F1/62
摘要：
本发明涉及用于光刻的保护膜片、包括其的表膜和其形成方法。本文中提供用于光刻的保护膜片，其包括：包括碳的芯层、在所述芯层上的界面层、和在所述界面层上的保护层。所述界面层包括键合至所述芯层的碳原子的反应性基团，并且所述反应性基团包括氧或氮。所述保护层包括元素“M”，并且元素“M”键合至所述反应性基团的氧或氮。