Invention Publication
- Patent Title: 基于1/n模的微型低损耗硅基扇形基片集成波导结构
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Application No.: CN202311369203.3Application Date: 2023-10-20
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Publication No.: CN117497983APublication Date: 2024-02-02
- Inventor: 刘晓贤 , 范晨晖 , 朱樟明 , 刘诺 , 张谦 , 张涛 , 卢启军
- Applicant: 西安电子科技大学
- Applicant Address: 陕西省西安市太白南路2号
- Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市太白南路2号
- Agency: 西安嘉思特知识产权代理事务所
- Agent 刘长春
- Main IPC: H01P3/16
- IPC: H01P3/16 ; H01P1/208

Abstract:
本发明公开了一种基于1/n模的微型低损耗硅基扇形基片集成波导结构,包括从上至下依次设置的上金属层、硅基板和金属底板;硅基板中设有TSV结构,上金属层和金属底板通过TSV结构实现上下连接,形成扇形基片集成波导结构;扇形基片集成波导结构具有m个扇形金属谐振腔;m个扇形金属谐振腔是利用至少一条耦合槽线将扇形基片集成波导结构进行分割得到的;耦合槽线用以实现相邻扇形金属谐振腔间的耦合;其中,m表示滤波器阶数,m≥2,n=360°/θ,θ为扇形金属谐振腔的圆心角。该结构实现了宽通带和双通带特性的无源器件,在不降低器件性能的同时降低了其面积。
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