发明公开
- 专利标题: 一种基于基片表面自干涉的焦面锁定方法及装置
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申请号: CN202311608615.8申请日: 2023-11-29
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公开(公告)号: CN117539044A公开(公告)日: 2024-02-09
- 发明人: 周楠 , 刘文杰 , 王瑾 , 张祖鑫 , 杨思恒 , 董建杰 , 匡翠方
- 申请人: 之江实验室
- 申请人地址: 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 专利权人: 之江实验室
- 当前专利权人: 之江实验室
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 代理机构: 杭州天正专利事务所有限公司
- 代理商 王兵; 杨东炜
- 主分类号: G02B21/00
- IPC分类号: G02B21/00 ; G02B21/06 ; G02B21/36
摘要:
一种基于基片表面自干涉的焦面锁定方法及装置,包括激光器、透镜组、分束器、四分之一波片、压电位移台、基片、载物台、成像物镜、相机和计算机或图形处理器。基片表面起伏结构的散射光与透射光或反射光发生干涉,形成散斑图像,散斑图像随成像物镜焦面的移动而变化。通过采集成像物镜焦面各位置处的散斑图像形成图像堆栈,并计算当前时刻散斑图像与图像堆栈中散斑图像的相似度,可确定当前成像物镜的焦面位置,并进一步实现焦面锁定的功能。本发明提供一种通过光学手段实现焦面锁定的方法及装置,具有装置简单、样品制备流程简单、装置简单、与各类光学系统兼容性强的优势。