Invention Publication
- Patent Title: 用于目标在回路大功率激光合成发射的装置
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Application No.: CN202311362500.5Application Date: 2023-10-19
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Publication No.: CN117663909APublication Date: 2024-03-08
- Inventor: 李伟 , 刘凯 , 高祝君 , 龙畅 , 杨春平 , 彭真明
- Applicant: 电子科技大学
- Applicant Address: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- Assignee: 电子科技大学
- Current Assignee: 电子科技大学
- Current Assignee Address: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- Agency: 成都正煜知识产权代理事务所
- Agent 袁宇霞
- Main IPC: F41H13/00
- IPC: F41H13/00 ; G01D21/02 ; F41H11/02

Abstract:
本发明应用领域为定向能技术,应用为激光打击无人机、导弹等目标,既可以作为防御也可以作为进攻武器领域,提供了一种用于目标在回路大功率激光合成发射的装置。主旨在于解决现有大功率激光合成发射技术采用先合成再发射,导致的单纯功率合成不能使亮度进一步提高的问题。主要方案为包括激光器发出的激光光路依次经过调焦透镜(4)投射、快速反射镜(3)、次反射镜(2)、主反射镜(1),通过控制调焦透镜(4)投射、快速反射镜(3)、次反射镜(2)实现激光最终得以聚焦到目标上,进而实现对目标进行精准追踪和高效毁伤的目的。
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