发明公开
- 专利标题: 一种铜箔软连接焊接镍片的制作工艺
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申请号: CN202311752470.9申请日: 2023-12-19
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公开(公告)号: CN117733307A公开(公告)日: 2024-03-22
- 发明人: 唐伟 , 伊振华 , 徐晓波 , 吴镇涛 , 郑贤亮 , 宋静
- 申请人: 苏州宇盛电子有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市吴中区胥口镇惠安路北侧
- 专利权人: 苏州宇盛电子有限公司
- 当前专利权人: 苏州宇盛电子有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市吴中区胥口镇惠安路北侧
- 代理机构: 成都华复知识产权代理有限公司
- 代理商 蒋文芳
- 主分类号: B23K20/02
- IPC分类号: B23K20/02 ; B23K20/233 ; B23K20/24 ; B23K20/26 ; B23K103/18
摘要:
本发明公开了一种铜箔软连接焊接镍片的制作工艺,包括如下步骤:S1、材料预处理;S2、设定点焊机的焊接参数;S3、将铜带与镍片预点焊定位;S4、整理S3和要焊接的铜箔,S5、设定高分子扩散焊机的焊接参数;S6、将待焊接的铜带与镍片放置在两片石墨片之间,S7、产生0.2Mpa的压力将铜带和镍片压紧在两片石墨片之间,产生8.5kA的电流通过铜带和镍片并产生热量,从而将铜带和镍片焊接在一起;本发明相较于传统工艺的采用60mm长的镍片,本工艺采用40mm的镍片与铜带实现软连接,不会产生多余的镍片进行后续处理,提高镍片的利用率,减少镍片的浪费,镍片的利用率可达到95%以上,减少后期一个人单独处理多余镍片的工时,进而提高了工作效率,降低人工劳动力。