- 专利标题: 一种单晶金刚石压敏芯片及其制备方法和高温压力传感器
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申请号: CN202410096099.3申请日: 2024-01-24
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公开(公告)号: CN117928791B公开(公告)日: 2024-08-13
- 发明人: 东芳 , 蒋顺勇 , 刘胜 , 汪启军 , 吴改 , 沈威 , 张栋梁
- 申请人: 武汉大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市武昌区八一路299号
- 专利权人: 武汉大学
- 当前专利权人: 武汉大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市武昌区八一路299号
- 代理机构: 武汉红观专利代理事务所
- 代理商 徐春燕
- 主分类号: G01L1/22
- IPC分类号: G01L1/22 ; G01L9/00
摘要:
本发明涉及压力传感器的技术领域,尤其涉及一种单晶金刚石压敏芯片及其制备方法和高温压力传感器,压敏芯片包括衬底、压敏电阻、压敏薄膜、第一保护镀层和欧姆接触电极,衬底为单晶金刚石,衬底一侧开设有背腔,背腔的面积小于衬底的面积;衬底远离背腔的一侧设置有压敏电阻、压敏薄膜和第一保护镀层,第一保护镀层覆盖衬底远离背腔的一侧,所述第一保护镀层与背腔中心平行对应的区域蚀刻形成压敏薄膜,压敏薄膜周向设置有多个端部,每个端部嵌设有一组压敏电阻;欧姆接触电极位于第一保护镀层远离衬底的一侧,且串联若干组压敏电阻。本发明以单晶金刚石材料制备压敏芯片和高温压力传感器,可提高高温压力传感器的耐高温性能和检测灵敏度,该传感器相较于传统的高温压力传感器能承受更高的工作温度,封装结构均为耐高温陶瓷材料,具备在高温、高辐照环境下的工作能力。
公开/授权文献
- CN117928791A 一种单晶金刚石压敏芯片及其制备方法和高温压力传感器 公开/授权日:2024-04-26