本发明公开了一种超低损耗抗弯光纤及其制备方法，所述光纤包括从内到外依次设置的纤芯层、第一内包层、第二内包层和外包层，所述纤芯层的相对折射率差Δn1为0.28％～0.36％，第一内包层的相对折射率差Δn2为‑0.03％～‑0.09％，第二内包层的相对折射率差Δn3为‑0.04％～‑0.1％，外包层的相对折射率差Δn4为‑0.01％～‑0.06％。本发明的纤芯层相对折射率差径向由Δn1线性降低为Δn2，可以降低弯曲状态下折射率剖面的畸变程度；优化了第一内包层和第二内包层的相对折射率差，可以提高产品的宏弯性能；优化了芯包层的掺杂浓度，可以减少芯/包层的界面上缺陷和断键,从而可以大大降低光纤的衰减系数；优化了芯包层的直径，可以减少外包层中的羟基扩散至纤芯层，从而可以进一步降低光纤的衰减系数。