发明公开
- 专利标题： 一种紫外非线性光学CLBO晶体助熔剂及晶体生长方法
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申请号： CN202410115477.8申请日： 2024-01-26
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公开(公告)号： CN117966249A公开(公告)日： 2024-05-03
- 发明人: 陈建荣 , 肖亚波 , 王国影 , 韩加红
- 申请人： 中材人工晶体研究院有限公司 , 北京中材人工晶体研究院有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区红松园1号;
- 专利权人： 中材人工晶体研究院有限公司,北京中材人工晶体研究院有限公司
- 当前专利权人： 中材人工晶体研究院有限公司,北京中材人工晶体研究院有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区红松园1号;
- 代理机构： 成都宏田知识产权代理事务所
- 代理商 邓辉
- 主分类号： C30B9/12
- IPC分类号： C30B9/12 ; C30B29/10 ; G02F1/355
摘要：
本发明公开了一种紫外非线性光学CLBO晶体助熔剂及晶体生长方法。采用LiVO3作为助熔剂，一方面LiVO3助熔剂可以有效打断B‑O键链，降低硼酸盐熔体的粘度(小于500cP)，降低晶体生长温度(650‑678℃)，大大减少高温溶液的挥发，且不会引入杂质离子到晶体中，提高了晶体光学质量，同时溶液透明，生长期间可以实时观察，挥发极小，不产生漂晶；采用合适生长工艺，生长出尺寸为84mm×82mm×52mm完全透明的高光学质量CLBO晶体，晶体透过率，从深紫外波段晶体透过率波段到近红外波段，210nm‑1100nm不小于90％，抗激光损伤阈值达到10.98J/cm2@1ns,355nm。