发明公开
- 专利标题: 真空泵、真空泵的轴承保护构造以及真空泵的旋转体
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申请号: CN202280065493.X申请日: 2022-11-09
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公开(公告)号: CN118019913A公开(公告)日: 2024-05-10
- 发明人: 山口俊树
- 申请人: 埃地沃兹日本有限公司
- 申请人地址: 日本千叶县
- 专利权人: 埃地沃兹日本有限公司
- 当前专利权人: 埃地沃兹日本有限公司
- 当前专利权人地址: 日本千叶县
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 张雨; 任霄
- 优先权: 2021-186398 20211116 JP
- 国际申请: PCT/JP2022/041792 2022.11.09
- 国际公布: WO2023/090231 JA 2023.05.25
- 进入国家日期: 2024-03-27
- 主分类号: F04D19/04
- IPC分类号: F04D19/04
摘要:
本发明提供一种能够在磁轴承无法控制时降低旋转体作用在触底轴承上的动能的真空泵。真空泵(100)具备设置有旋转叶片(102)的旋转体(103)、设置在旋转体的中心的转子轴(113)、悬浮支承转子轴的磁轴承(114)、被设置为与转子轴之间存在间隙、且在磁轴承无法控制时支承转子轴的触底轴承(155,156),具有保护触底轴承的轴承保护构造,轴承保护构造由设置在旋转体和旋转体周边的部件的至少一方的突出部(160)构成,在转子轴向触底轴承发生触底时,旋转体经由突出部与旋转体周边的部件接触,从而降低旋转体作用在触底轴承上的动能。