本发明涉及半导体器件技术领域，公开了一种晶圆除静电设备及基于高纯水供给的除静电方法，包括供水设备、与供水设备相匹配的清洗设备、设于清洗设备内的晶圆硅片，清洗设备内固定组件、夹持组件、除水组件以及清洗组件，晶圆硅片安装于固定组件上，固定组件与夹持组件和除水组件之间设有传动件，以使固定组件运行时，带动传动件运行，并带动夹持组件和除水组件运行。本发明通过除水件中刮水板以及辊轴的设置，使得晶圆硅片以及隔水环在转动时，对隔水环以及空心垫上的水渍进行刮除，解决了晶圆硅片使用高纯水除静电后，进行干燥操作的过程以及结束后，会有水液滴落或滑落，降低晶圆的干燥效率，以及水液遗留在晶圆表面的问题。