本发明公开了一种循环水冷式晶圆热处理腔体，属于晶圆热处理技术领域，本发明包括上端盖，所述上端盖的下方设置有下端盖，且上端盖和下端盖之间固定安装有中心框架，所述上端盖和下端盖的内部均固定安装有加热管；还包括：所述中心框架的右侧安装有注气管，所述中心框架的内部固定安装有横向通气板，且横向通气板的右端下方固定连接有竖向通气板；所述中心框架内部下方石英支撑板的上端固定连接有引流罩，且引流罩的中部安装有传动杆。该循环水冷式晶圆热处理腔体，能够方便对不同尺寸的晶圆进行支撑，保证晶圆在热处理时的稳定性，同时能够使晶圆在热处理时，晶圆的各个位置能够均匀受热，避免晶圆被顶针遮挡位置与其他区域温度出现偏差。