混合键合方法、三维集成电路及电子设备
摘要:
本申请涉及半导体技术领域,尤其是涉及一种混合键合方法、三维集成电路及电子设备。混合键合方法包括提供第一半导体结构和第二半导体结构。在所述第一金属触点远离所述第一半导体层的端部形成(111)晶面的第一单晶铜凸点,在所述第二金属触点远离所述第二半导体层的端部形成(111)晶面的第二单晶铜凸点。在所述第一单晶铜凸点上形成(111)晶面、(1‑10)晶面或(11‑2)晶面的锆中介层。将所述第一半导体结构和所述第二半导体结构进行对位键合。本申请能够实现低温Cu‑Cu混合键合,工艺难度低且键合效果较好、产品可靠性较高。
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