发明公开
- 专利标题: 一种薄膜介质击穿光谱测量装置及方法
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申请号: CN202410247903.3申请日: 2024-03-05
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公开(公告)号: CN118275830A公开(公告)日: 2024-07-02
- 发明人: 李化 , 张国豪 , 兰靖 , 林福昌 , 焦婷 , 张嘉旻
- 申请人: 华中科技大学 , 国网上海市电力公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号;
- 专利权人: 华中科技大学,国网上海市电力公司
- 当前专利权人: 华中科技大学,国网上海市电力公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号;
- 代理机构: 华中科技大学专利中心
- 代理商 李晓飞
- 主分类号: G01R31/12
- IPC分类号: G01R31/12 ; G01N21/25
摘要:
本发明公开了一种薄膜介质击穿光谱测量装置及方法,属于高压绝缘及光电测量领域,包括:加压模块、光收集模块、光谱仪及光电转换器件;所述加压模块用于给待测样品加压,以使薄膜介质发生击穿并产生击穿电弧;其中,所述待测样品为单面蒸镀金属电极的薄膜介质,所述薄膜介质的厚度为微米级;所述光收集模块用于从垂直于击穿点方向收集击穿电弧产生的光,并聚焦后折射到所述光谱仪的狭缝上;所述光谱仪用于将聚焦后的光进行分光,然后经过所述光电转换器件转换为用于测量击穿电弧的光谱。本发明能够实现微米级薄膜介质在微秒级放电过程的电弧光谱测量。