本发明提供一种外延设备，包括：反应腔；基座，所述基座设置于所述反应腔内；基座支撑部，所述基座支撑部用于支撑所述基座，并带动所述基座旋转和升降；销支撑部，所述销支撑部与所述基座支撑部同轴设置，且所述销支撑部套设于所述基座支撑部的外部；其中，所述基座支撑部中形成吹扫通道，所述吹扫通道配置为随着所述基座支撑部的旋转而旋转吹扫口，以实现脉冲式定向吹扫所述反应腔的腔体底部的上表面。本发明提供的外延设备设置吹扫口，可以防止下穹顶的内表面上生成反应副产物的发生。