发明公开
- 专利标题： X射线散射量测装置及X射线散射量测方法
-
申请号： CN202310870906.8申请日： 2023-07-14
-
公开(公告)号： CN118329942A公开(公告)日： 2024-07-12
- 发明人: 喻虹 , 谈志杰
- 申请人： 张江国家实验室
- 申请人地址： 上海市浦东新区海科路99号
- 专利权人： 张江国家实验室
- 当前专利权人： 张江国家实验室
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区海科路99号
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 宋俊寅; 张鑫
- 主分类号： G01N23/201
- IPC分类号： G01N23/201 ; G01N23/20008
摘要：
本发明涉及一种X射线散射量测装置及X射线散射量测方法，通过对X射线源、第一X射线聚焦镜、第二X射线聚焦镜、至少一个光阑的位置；第一X射线聚焦镜、第二X射线聚焦镜的姿态；以及至少一个光阑的尺寸进行调节，从而能够使得从X射线源发出的X射线入射到待测样品上而形成较小的光斑截面尺寸，因而能够获得更小的量测区域尺寸。