发明公开
- 专利标题： 一种基于岩石微损刻划的强度测试方法
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申请号： CN202410401162.X申请日： 2024-04-03
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公开(公告)号： CN118362449A公开(公告)日： 2024-07-19
- 发明人: 胡大伟 , 陈石 , 周辉 , 杨福见 , 王志敏 , 张传庆 , 胡明明 , 杨凡杰 , 卢景景 , 朱勇 , 高阳 , 江飞飞 , 涂洪亮
- 申请人： 中国科学院武汉岩土力学研究所
- 申请人地址： 湖北省武汉市武昌区水果湖街小洪山2号
- 专利权人： 中国科学院武汉岩土力学研究所
- 当前专利权人： 中国科学院武汉岩土力学研究所
- 当前专利权人地址： 湖北省武汉市武昌区水果湖街小洪山2号
- 代理机构： 武汉知松梁权知识产权代理事务所
- 代理商 彭芳
- 主分类号： G01N3/56
- IPC分类号： G01N3/56 ; G01N3/02 ; G01B7/34
摘要：
本发明公开了一种基于岩石微损刻划的强度测试方法，属于岩石宏观力学性能测试技术领域，通过滚珠型LVDT探头精确感知待测岩样与刀头平行度、待测岩样表面粗糙度，规避了现有划痕测试技术对岩样平整度要求高、测试结果离散性大的弊端，提升了岩石划痕测试的稳定性与准确性。基于二维伺服加载调控技术，将LVDT感知到的待测岩样表面粗糙度情况实时反馈到刀头，实现刀头竖向位移跟随横向移动路径变化，从而确保设置的连续刮擦深度恒定。
