一种深度图校正方法、电子设备及存储介质
摘要:
本发明实施例涉及半导体技术领域,尤其涉及一种深度图校正方法、电子设备及存储介质,所述方法包括:获取光线投射于待检测物品表面所产生的目标图像;基于目标图像获取展开相位图和深度图;统计展开相位图中像素点的相位值以获得相位值信息,基于相位值信息,确定展开相位图中的异常像素点;剔除深度图中与异常像素点对应的像素点,以校正深度图。该方法基于展开相位图进行滤波,通过利用展开相位图的物理特性,快速准确地检测出展开相位图中相位值异常的异常像素点(对应于深度图的阴影区域及高亮区域),以校正深度图,从而能够在减少复数光机使用的同时,改善产品结构三维还原的准确性。
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