- 专利标题: 一种晶片黏结薄膜、存储器芯片及其制备方法
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申请号: CN202411073960.0申请日: 2024-08-07
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公开(公告)号: CN118599460A公开(公告)日: 2024-09-06
- 发明人: 伍得 , 李婷 , 廖述杭 , 苏峻兴
- 申请人: 武汉市三选科技有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区高新大道999号海外人才大楼A座17楼1710室
- 专利权人: 武汉市三选科技有限公司
- 当前专利权人: 武汉市三选科技有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区高新大道999号海外人才大楼A座17楼1710室
- 代理机构: 北京众达德权知识产权代理有限公司
- 代理商 刘杰
- 主分类号: C09J163/00
- IPC分类号: C09J163/00 ; C09J163/10 ; C09J11/04 ; H01L21/683 ; H01L21/67
摘要:
本发明提供了一种晶片黏结薄膜、存储器芯片及其制备方法,晶片黏结薄膜以质量份数计包括以下组分:二氧化硅20~30份,橡胶改性环氧树脂20~25份,丙烯酸环氧树脂10~15份,柔性环氧树脂10~20份,聚氨酯改性环氧树脂15~20份,固化剂20~25份,促进剂0.5~1.0份;柔性环氧树脂为YX‑7400;通过调节橡胶改性环氧树脂、丙烯酸环氧树脂、柔性环氧树脂和聚氨酯改性环氧树脂之间的比例,并在促进剂的作用下,固化剂和混合环氧树脂交联形成一个整体,同时通过二氧化硅降低晶片黏结薄膜的内应力和热膨胀系数,使得晶片黏结薄膜具有超低模量、高粘着力和低吸水性。在芯片封装过程中,晶片黏结薄膜在高温下处于熔融状态,与芯片紧密接触,进而提高芯片的封装良率。
公开/授权文献
- CN118599460B 一种晶片黏结薄膜、存储器芯片及其制备方法 公开/授权日:2024-10-29