发明公开
- 专利标题： 偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法
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申请号： CN202410932476.2申请日： 2020-02-06
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公开(公告)号： CN118671872A公开(公告)日： 2024-09-20
- 发明人: 高永幸佑 , 滨本大介 , 上条卓史
- 申请人： 日东电工株式会社
- 申请人地址： 日本
- 专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人地址： 日本
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 韩平
- 优先权： 2019-021236 20190208 JP
- 主分类号： G02B5/30
- IPC分类号： G02B5/30 ; G02B1/08 ; B29C55/06 ; B29K29/00 ; B29L9/00
摘要：
提供一种沿吸收轴方向的断裂得以抑制的偏光膜。本发明的偏光膜由包含二色性物质的聚乙烯醇系树脂薄膜构成，且取向函数为0.30以下。在1个实施方式中，偏光膜的厚度为8μm以下。本发明的偏光板具有：上述的偏光膜、和配置于偏光膜的至少一侧的保护层。
