发明公开
- 专利标题: 介质处理装置及图像形成系统
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申请号: CN202410282762.9申请日: 2024-03-13
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公开(公告)号: CN118683227A公开(公告)日: 2024-09-24
- 发明人: 山本高志 , 杉山惠介 , 佐佐木圭 , 濑户一贵 , 斋藤翔平 , 玉木幸歌 , 阿部航大
- 申请人: 株式会社理光
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 王永伟
- 优先权: 2024-017267 20240207 JP 2024-017267 20240207 JP
- 主分类号: B42B9/06
- IPC分类号: B42B9/06
摘要:
本发明提供在液体供给路径部中,不会妨碍液体的流动,液体供给路径部能够追随液体赋予单元的移动的介质处理装置及图像形成系统。该介质处理装置包括:液体赋予部,其对至少一张介质赋予液体;后处理部,其对包含在液体赋予部中被赋予了液体的至少一张介质的介质束实施规定的处理;储液部,其贮存用于液体赋予的液体;移动单元,其能够使液体赋予部在作为与介质被输送到液体赋予部的输送方向正交的方向的该介质的宽度方向上往返移动,以及液体供给部,其从储液部向液体赋予部供给液体,液体供给部在其至少一部分中具有圆筒状且伸缩自如的伸缩性部件,伸缩性部件沿着移动单元的往返移动方向配置。