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公开(公告)号:CN118684056A
公开(公告)日:2024-09-24
申请号:CN202410218207.X
申请日:2024-02-28
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明提供一种能够抑制因液体供给构成中的异常发生而造成的损害的介质处理装置及图像形成系统。包括:第一储液部,能够贮存向液体赋予部件供给的液体,所述液体赋予部件对所述介质进行液体赋予;第二储液部,能够贮存用于向第一储液部补给的液体,以及液体流通路径,与第一储液部和第二储液部连接,并使液体能够在两者之间流通,液体流通路径具有:漏液检测部,检测液体的泄漏,以及液流限制部,当检测到液体的泄漏时,限制液体的流通的方向。
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公开(公告)号:CN118683228A
公开(公告)日:2024-09-24
申请号:CN202410296105.X
申请日:2024-03-15
Applicant: 株式会社理光
IPC: B42B9/06
Abstract: 本发明提供一种介质处理装置及图像形成系统,通过适当地改变液体赋予机构和装订机构的姿势,能够将液体赋予机构和装订机构碰撞而导致的这两个机构及其周边设备的破损或故障的发生防患于未然。介质处理装置具有液体赋予单元转动机构,在姿势切换位置与向主扫描方向的一侧移动的液体赋予单元抵接,从斜向赋予姿势切换为平行赋予姿势,并在姿势切换位置与向主扫描方向的另一侧移动的液体赋予单元抵接,从平行赋予姿势切换为斜向赋予姿势;碰撞回避机构,在液体赋予单元和装订单元向主扫描方向的另一侧移动时,在液体赋予单元到达姿势切换位置之前,在装订单元到达的限制位置中,使处于斜向装订姿势的装订单元通过,并阻止处于平行装订姿势的装订单元通过。
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公开(公告)号:CN118683227A
公开(公告)日:2024-09-24
申请号:CN202410282762.9
申请日:2024-03-13
Applicant: 株式会社理光
IPC: B42B9/06
Abstract: 本发明提供在液体供给路径部中,不会妨碍液体的流动,液体供给路径部能够追随液体赋予单元的移动的介质处理装置及图像形成系统。该介质处理装置包括:液体赋予部,其对至少一张介质赋予液体;后处理部,其对包含在液体赋予部中被赋予了液体的至少一张介质的介质束实施规定的处理;储液部,其贮存用于液体赋予的液体;移动单元,其能够使液体赋予部在作为与介质被输送到液体赋予部的输送方向正交的方向的该介质的宽度方向上往返移动,以及液体供给部,其从储液部向液体赋予部供给液体,液体供给部在其至少一部分中具有圆筒状且伸缩自如的伸缩性部件,伸缩性部件沿着移动单元的往返移动方向配置。
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公开(公告)号:CN118665064A
公开(公告)日:2024-09-20
申请号:CN202410258959.9
申请日:2024-03-07
Applicant: 株式会社理光
IPC: B42B9/06
Abstract: 本发明提供在液体剩余量不足于预定的液体赋予处理中的使用量时,即使用户不进行液体的补充,也能够执行一定次数的液体赋予来进行压接装订的介质处理装置及图像形成系统。介质处理装置包括:液体赋予单元,其对至少一张介质的一部分进行液体赋予;后处理单元,其对包含进行了液体赋予的至少一张介质的介质束实施规定的处理;液体储液部,其贮存用于液体赋予的液体;液体检测单元,其检测液体储液部中的液体的剩余量,以及控制单元,其基于液体检测单元的检测结果,控制液体赋予单元能否进行液体赋予,控制单元在液体检测单元的检测结果表示为液体的剩余量没有时,使液体赋予单元的液体赋予次数为规定次数以下。
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公开(公告)号:CN105035819A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201510208282.9
申请日:2015-03-17
Applicant: 株式会社理光
Inventor: 斋藤翔平 , 长藤秀夫 , 荒井裕司 , 吉浦有信 , 宇都宫皓一 , 崔奇峰 , 山野元义 , 池渊豊 , 原岛裕一 , 塚本洋一 , 远藤敏 , 泽田大亮 , 信冈佑纪 , 久保木信吾 , 菊池隆洋
CPC classification number: G03G21/1695 , G03G15/2028 , G03G15/6573 , G03G21/1633 , G03G21/1638 , G03G2215/00544 , G03G2215/00552 , B65H29/00 , B65H2601/11 , G03G15/2064 , G03G2215/2035
Abstract: 一种包括在成像设备中的纸张输送装置,该纸张输送装置包括:输送部件,具有用于输送记录介质的输送表面,输送部件在第一方向沿着成像设备的前后方向延伸。输送部件包括:裸露表面,在打开状态下裸露,其中成像设备在第二方向打开以裸露成像设备的内部,第二方向对应于成像设备的右侧或左侧方向;手柄,在第一方向置于裸露表面上至少一个位置,在打开状态中裸露,并且操作为在打开状态中裸露输送表面;和摆动枢转点,用于当手柄在打开状态中操作时,围绕第一方向摆动输送部件以裸露输送表面。手柄被设置在第一方向靠近输送部件的中心的位置之间范围内的至少一个位置,所述位置沿着第一方向远离输送部件的中心一定距离。
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