发明公开
- 专利标题： 一种液晶面板用Cu-MTD蚀刻液及其制备方法
-
申请号： CN202410693442.2申请日： 2024-05-31
-
公开(公告)号： CN118685774A公开(公告)日： 2024-09-24
- 发明人: 李瑞 , 邓雪琴 , 吕行行 , 邵勇
- 申请人： 四川江化微电子材料有限公司
- 申请人地址： 四川省眉山市四川彭山经济开发区创新二路东段12号
- 专利权人： 四川江化微电子材料有限公司
- 当前专利权人： 四川江化微电子材料有限公司
- 当前专利权人地址： 四川省眉山市四川彭山经济开发区创新二路东段12号
- 代理机构： 成都华烨专利代理事务所
- 代理商 李娜
- 主分类号： C23F1/18
- IPC分类号： C23F1/18 ; C09K13/00
摘要：
本发明公开了一种液晶面板用Cu‑MTD蚀刻液及其制备方法，属于铜蚀刻液技术领域，包括以下重量占比的组分：双氧水5‑18％、稳定剂0.01‑1％、有机酸1‑12％、有机碱1‑10％、缓蚀剂0.01‑2％，其余为超纯水。该铜蚀刻液具有兼容性强、蚀刻效率稳定、蚀刻效果好的优点，可有效解决现有技术中的问题。
IPC分类:
