发明公开
- 专利标题: 提高外延片平坦度的制备方法和装置
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申请号: CN202411297008.9申请日: 2024-09-18
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公开(公告)号: CN118814261A公开(公告)日: 2024-10-22
- 发明人: 徐新华
- 申请人: 浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司
- 申请人地址: 浙江省丽水市莲都区南明山街道绿谷大道309号国际车城15号楼11层-241
- 专利权人: 浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省丽水市莲都区南明山街道绿谷大道309号国际车城15号楼11层-241
- 代理机构: 浙江维创盈嘉专利代理有限公司
- 代理商 胡根平
- 主分类号: C30B25/08
- IPC分类号: C30B25/08 ; C30B25/14
摘要:
本发明公开了提高外延片平坦度的制备方法和装置,涉及外延片生产技术领域,提高外延片平坦度的制备装置,包括两端为敞口的反应壳体,还包括密封进气法兰,其密封连接于反应壳体一端;密封排气件,其密封连接于反应壳体另一端;进气管,其贯穿密封进气法兰,并一端延伸至反应壳体内;本发明通过喇叭形槽口、密封盖板等之间的相互配合,在初始充气阶段,通过抽气系统对活塞腔进行抽气,使大流量的保护气体从喇叭形槽口流出进入反应壳体内,大流量的保护气体流出,能够避免气体未混合均匀前,气相沉积反应的混合气体过早地沉淀在外延片上,导致外延片厚度不均匀的情况发生。
IPC分类: