发明公开
- 专利标题: 超声波传感器及其制备方法、超声波成像器
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申请号: CN202410868661.X申请日: 2024-06-28
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公开(公告)号: CN118857353A公开(公告)日: 2024-10-29
- 发明人: 李菲菲 , 崔钊 , 宁策 , 李正亮 , 胡合合 , 黄杰 , 姚念琦 , 贺家煜 , 赵坤 , 付续
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 梁柏祺
- 主分类号: G01D5/48
- IPC分类号: G01D5/48
摘要:
本申请提供了一种超声波传感器及其制备方法、超声波成像器,涉及传感器技术领域,旨在提高超声波传感器的性能。该超声波传感器包括衬底及设置于衬底上的多个超声波传感单元,每个超声波传感单元包括层叠的第一堆叠结构、第二堆叠结构和超声波换能器,第二堆叠结构和超声波换能器设置于第一堆叠结构的远离衬底的一侧。第一堆叠结构包括第一晶体管,第二堆叠结构包括第二晶体管,第一晶体管和第二晶体管与超声波换能器电连接。上述超声波传感器可应用于超声波成像器中,以实现图像的采集和生成。