本申请提供一种半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法，涉及半导体晶圆加工领域。一种半导体湿法刻蚀清洁装置，包括：存储架，所述存储架的外侧固定连接有支腿架，且支腿架的底部固定连接有固定架，且固定架的一侧固定连接有气缸筒；所述存储架的内腔设置有升降组件，且升降组件的四周均设置有浸液组件；所述固定架的内腔设置有与气缸筒配合使用的供给组件，且供给组件的一侧设置有旋转组件。该半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法，在对经过湿法刻蚀加工后的晶圆清洁期间，先对晶圆在清洗剂内进行反复下降浸没和升起脱离操作，将附着在晶圆表面的杂质进行反复浸没脱离清洁，同时对晶圆表面的杂质进行动态清洁操作。