Invention Publication
- Patent Title: 金刚石半导体器件及其制作方法
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Application No.: CN202411232910.2Application Date: 2024-09-04
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Publication No.: CN119300447APublication Date: 2025-01-10
- Inventor: 王宏跃 , 柳月波 , 何亮 , 刘红辉 , 陈媛
- Applicant: 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))
- Applicant Address: 广东省广州市增城区朱村街朱村大道西78号
- Assignee: 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))
- Current Assignee: 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))
- Current Assignee Address: 广东省广州市增城区朱村街朱村大道西78号
- Agency: 华进联合专利商标代理有限公司
- Agent 宋宸
- Main IPC: H10D64/20
- IPC: H10D64/20 ; H10D64/62 ; H10D64/01 ; H01L21/28

Abstract:
本申请涉及一种金刚石半导体器件及其制作方法。金刚石半导体器件包括:器件主体;金电极,金电极设置在器件主体的表面;介质层,介质层设置在器件主体的表面,介质层围绕金电极;黏附金属层,黏附金属层分别连接金电极和介质层,黏附金属层用于引出电极。通过在器件主体的表面设置围绕金电极的介质层,并设置黏附金属层分别连接金电极和介质层,通过黏附金属层和金电极来引出电极,由于介质层与器件主体之间的黏附性较强,且黏附金属层与介质层之间的黏附性较强,因此,黏附金属层可以起到对金电极进行加固的作用,减少在后续进行外部封装互连时,出现金电极脱落的情况。
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