化学放大型正光刻胶组合物

发明授权

CN1209686C 化学放大型正光刻胶组合物失效 - 权利终止

摘要：

本发明公开了一种具有良好灵敏度和分辨率以及其它光刻胶性能特性的的化学放大型正光刻胶组合物，其含有树脂(X)和产酸剂(Y)，其中该树脂具有下式(I)所示的聚合单元、下式(II)所示的聚合单元(如说明书所定义)，衍生于选自马来酸酐和衣康酸酐的不饱和二羧酸酐的聚合单元，和下式(V)所示的聚合单元。

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/039	..可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F7/023）