发明授权
CN1209818C 互补双极晶体管及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 互补双极晶体管及其制造方法
- 专利标题(英): Complementary bipolar transistor and its manufacturing method
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申请号: CN02105216.6申请日: 1997-10-10
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公开(公告)号: CN1209818C公开(公告)日: 2005-07-06
- 发明人: 金钟钚 , 权泰勋 , 金喆重 , 李硕均
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 李晓舒; 魏晓刚
- 优先权: 45305/1996 1996.10.11 KR; 46600/1997 1997.09.10 KR
- 分案原申请号: 971193134
- 主分类号: H01L27/04
- IPC分类号: H01L27/04 ; H01L21/82
摘要:
有横向npn双极晶体管,垂直和横向pnp双极晶体管,集成注入逻辑,扩散电容器、多晶硅电容器和多晶硅电阻器的互补双极晶体管。横向双极晶体管有包括高浓度区和低浓度区的发射区和集电区,发射区形成在n型桶形区中。集成注入逻辑电路中,集电区由高浓度p型区包围,低浓度p型区形成在集电区下面。一个衬底中形成扩散电容器和多晶硅电容器。扩散区在形成多晶硅电阻器之前,除了把多晶硅电阻器中的杂质扩散进外延层中形成的区域之外,还形成沿多晶硅电阻器的多晶硅电极。
公开/授权文献
- CN1381893A 互补双极晶体管及其制造方法 公开/授权日:2002-11-27
IPC分类: