发明公开
- 专利标题: 用于光刻胶组合物的抗反射涂料组合物及其用途
- 专利标题(英): Antireflective coating compositions for photoresist compositions and use thereof
-
申请号: CN98804589.3申请日: 1998-04-21
-
公开(公告)号: CN1253639A公开(公告)日: 2000-05-17
- 发明人: 丁术季 , 卢炳宏 , D·N·科汉纳 , 单鑑会 , D·L·杜尔哈德 , R·R·旦莫尔 , M·D·拉赫曼
- 申请人: 克拉里安特国际有限公司
- 申请人地址: 瑞士穆腾茨
- 专利权人: 克拉里安特国际有限公司
- 当前专利权人: 默克专利有限公司
- 当前专利权人地址: 瑞士穆腾茨
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 陈季壮
- 优先权: 08/841,750 1997.04.30 US
- 国际申请: PCT/EP1998/02334 1998.04.21
- 国际公布: WO1998/49603 EN 1998.11.05
- 进入国家日期: 1999-10-27
- 主分类号: G03F7/09
- IPC分类号: G03F7/09
摘要:
本发明涉及一种包含在溶剂组合物中的新颖聚合物的抗反射涂料组合物。本发明还包含所述抗反射涂料组合物在照相平版印刷术中的使用方法。所述抗反射涂料组合物包含:新颖的聚合物和溶剂组合物,其中所述抗反射涂料中的新颖聚合物包含:至少一种含有吸收约180纳米至约450纳米的染料的单元,和至少一种不含芳香官能度的单元。所述溶剂可以是有机溶剂,优选的是低毒性溶剂,或者可以是水,所述溶剂另外还可以包含其它与水可混溶的有机溶剂。
公开/授权文献
- CN1159627C 用于光刻胶组合物的抗反射涂料组合物及光刻胶成像方法 公开/授权日:2004-07-28
IPC分类: