发明公开
- 专利标题： 化学机械抛光中用于减少有图案金属凹陷的组合物和方法
- 专利标题（英）： Compositions and method for reducing hollow of patterned matel in chemical-mechanical polishing
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申请号： CN99120301.1申请日： 1999-09-17
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公开(公告)号： CN1256992A公开(公告)日： 2000-06-21
- 发明人: C·T·林 , J-F·王 , F·F·雅曼 , R·拉马钱德兰
- 申请人： 西门子公司 , 国际商业机器公司
- 申请人地址： 联邦德国慕尼黑
- 专利权人： 西门子公司,国际商业机器公司
- 当前专利权人： 西门子公司,国际商业机器公司
- 当前专利权人地址： 联邦德国慕尼黑
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 卢新华; 王其灏
- 优先权： 09/156071 1998.09.17 US
- 主分类号： B24B1/00
- IPC分类号： B24B1/00 ; H01L21/304 ; H01L21/465 ; C09K13/00
摘要：
本发明涉及一种在化学机械抛光中用于减少作为工件镶嵌于电介质中的有图案大金属面凹陷的组合物,包括:粘性增加量的增强剂代替含有研磨剂的抛光浆中的去离子水。
